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热烈祝贺东方集成功在上海某研究所安装了SENTECH SI500D等离子体沉积系统

2024-10-21 【嵌入式系统】 0人已围观

简介2012年3月，东方集成在上海某研究所成功安装了SENTECH SI500D等离子体沉积系统。SI500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备，用于在基片上沉积SiOx, SiOxNy或SiNy薄膜。沉积薄膜的厚度、折射率、应力可以简单的、连续的调节。这是带LOADLOCK的SI500D等离子沉积系统在中国的第一次安装。SENTECH ICP-PECVD设备的安装

2012年3月，东方集成在上海某研究所成功安装了SENTECH SI500D等离子体沉积系统。SI500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备，用于在基片上沉积SiOx, SiOxNy或SiNy薄膜。沉积薄膜的厚度、折射率、应力可以简单的、连续的调节。这是带LOADLOCK的SI500D等离子沉积系统在中国的第一次安装。SENTECH ICP-PECVD设备的安装，由德国原厂技术支持工程师和东方集成工程师共同完成，由SENTECH和东方集成共同承担售后保修，具有标志性的历史意义。本次的安装，体现了东方集成为客户考虑，将工作做完美的一贯宗旨；也标志着，SENTECH中国区等离子体刻腐蚀和沉积系统业务在与东方集成的合作中进入了飞速、稳定的发展。